沈阳某光电器件电源芯片打造厂，晶圆生产加工期间中会产生含硅、氟的特出生产废液，设汁解决投资额1200吨/日。生产废液的成分冗杂，内含纳米级级硅颗粒状及氢佛酸，一般解决方式 难易标准。 污水材质及因素 具体生态破坏物 ：固体硅（100-500nm比表面积）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 源于繁琐流程 ：晶圆刻蚀废气（45%）、CMP催化自动化打蜡 废气（40%）、环保设备擦拭水（15%） 净化处理加工过程环节 科学创新用"有机化学析出+特总膜拆分"工艺路线规划： 钙盐沉淀出的 ：添加氯化钙取除氟铁离子（导出CaF2发展） 二沉池反映 ：分手后复合水解酸化池剂控制固体硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜公款私存微细粉末 反加入系统软件 ：脱盐率>98%，出售率75% 多效蒸发晶体 ：浓水段满足氟化物零排出 然后视觉效果 氟化物溶度：<8mg/L（不超过部委4级的标准10mg/L） 硅含量的：<5mg/L 水环境资源中水回用率：70%用作散热塔保湿补水 垃圾减轻药量：蒸馏沉渣量较经典方法以减少60%